刘益东磋磨员的不雅点直击枢纽

中国科学院当然科学史磋磨所磋磨员刘益东，在卫视节目禁受胡一虎采访时，把大众心里的疑问挑明了。他说好多东谈主看到外媒报谈中国EUV原型机，就以为咱们有那么强横吗，这诞生技能这样难，真能搞出原型机？

他讲得认知，咫尺半导体产业一经投入换谈超车阶段，跟外洋技能标的拉开距离。咱们的作念法不是全都照西方门道走，包括这个原型机亦然，多方面找妥当途径。

半导体产业的多旅途遴荐

换谈超车的底气来自多条技能途径并行。荷兰ASML是咫尺独一能量产EUV光刻机的企业，用的是激光等离子体技能，激光源来自好意思国公司自后被收购，放射器跟德国妥洽，反射镜组由德国蔡司独家提供，基本把全球顶尖资源都皆集了。中国没死盯这一条，还有团队在试激光教导放电等离子体技能。清华大学多年前提倡稳态微聚束技能，也即是SSMB-EUV。

蔡司跟ASML在这一规模拿下擢升1500项曝光安装专利，如果硬随着走，这些专利就成大贫乏。中国遴荐多途径，即是为了遁藏壁垒，风险小得多。唯独有一条走通，就能缓解被卡的场面。清华大学官方贵府说，SSMB光源有望责罚最中枢的难题，但光有光源不成，还得造放射器和曝光安装，险峻游供应链得一齐攻关才行。

从旨趣考据到原型机问世

实质发达一步一步来。2016年清华大学机械工程系认简直双工件台系统样机通过验收，达到65纳米到28纳米圭臬，为国产光刻机打下基础。2021年他们发表论文，考据了SSMB旨趣，用激光限制电子束变成微结构，产生高强度窄带宽关系辐射，为EUV光源开垦新标的。

2025年12月路透社报谈，中国在深圳实验室完成EUV原型机，是前ASML工程师团队参与，2025岁首拼装完成，咫尺处于测试阶段，一经见效产生极紫外光，但还没作念出可用芯片。里面指标是2028年用它产出芯片，知情东谈主士以为2030年更试验。这比外界预期的历程快不少，也施展出口照顾反而推着咱们加速自研脚步。

历程抓续冲突

EUV光刻机一经算是西方国度对中国推行出口照顾的临了一谈樊篱，该诞生的顽固让中国先进芯片产业出现了技能断层，也让中国企业运行加速国产诞生的发展。

这些实打实的作为连在一齐，就看得出中国在EUV上的门道是遁藏老轨谈，建我方的新轨谈。专利挡不住多线并进，供应链配合一步步补皆，原型机测出来即是从零到一的标记。说到底，自主革新靠的即是这种稳固干劲，一条路欠亨就换一条，总有能走通的期间。

参考贵府：

清华见效研发光刻机双工件台掩模台系统α样机-清华大学

清华初度考据“稳态微聚束”旨趣开yun体育网，有望助力光刻机自主研发-清华大学